某光电器件打造企业的因晶圆洁净工艺流程引发含氨污水，需水量200吨/天。污河中除氟化物外还包含有氟化物和轻微高价属，治理一定的难度大。本土摆放标淮要氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 因素及原因 晶圆擦洗化工废水（最主要原因）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工步污水：含少量铜、镍等血本属，pH值振幅大 CMP机磨废水处理方法：含硅颗粒肥料及挥发酚 除理加工过程标准流程 通过"电学沉定+膜分离出来+折点氯化"三人组合制作工艺： 预工作 ：加药系统CaCl2除氟，管理pH在7.5-8. 超滤膜程序 ：的还原0.01μm及以上颗粒状物 反侵入浸提 ：将挥发酚浸提至1000mg/L这些 折点氯化 ：准确设定氯加药系统量，将氟化物有效的转化为N2 阳离子置换 ：服务保障巨资属达到标准 结果结果 化学需氧量固定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属分子量低过探测限 水工业废水处理率达75% 生活污水有量增多40%