新项目环境 佛山某半导体行业厂产量的过程 中的同时造成高硅污化工废污水 （SiO₂ 500-800mg/L）和含氟污化工废污水 （F⁻ 200-300mg/L）。两个污化工废污水 混合着时易出现氟硅酸溶液，传统艺术化学沉淀物法不可稳定性不合格。大型项目需要同步软件的还原硅和氟（直接排放要求：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废液组成成分及特征 主要是材质 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 渠道 ：晶圆刻蚀电镀废水处理、CMP精磨电镀废水处理、装置喷洗水 清理鑫霖环保具体流程 协同管理乳浊液过程 ： 两极体现池 ： 一号级添加Ca(OH)₂合成CaF₂和CaSiO₃石雕文化沉淀； 第二名级加药PAC（聚合物氯化铝）提升斜板沉淀池。 固液拆分周期 ： 反渗透膜体系 ：运用0.02μm直径膜器件挪作他用氢氧化铁硅和微细发展物。 高度脱氟关键时期 ： 催化活性空气氧化铝粉吸附性塔 ：残留氟阴离子树脂吸附的还原。 终极成果 冒水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远更为重要发展中国家行业标准化。 超滤膜系统性通量安稳在15LMH，化学反应拆洗时间间隔变长至60天。 污泥处理经压滤后水分含量率＜65%，可按通常情况下危险废物应急处置。