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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆手工设备厂在华中中南部,主要产生8厘米半导体技术晶圆,日访问量污水摆股票放量约800吨。是由于产生操作过程中施用非常多盐酸做好晶圆蚀刻,出现污河中氟化物氧浓度达到200-300mg/L,远超欧洲国家摆放规定(10mg/L一下)。 废水处理工艺含量及来源于 焦化废水一般发源三大缓解: 晶圆蚀刻程序 :含高盐浓度氟化物(HF)、硝酸钠及大量天价属 电化学机械厂cnc精密机械加工(CMP)污水 :含纳米技术级硅粉末、有机会络合剂 生产设备擦拭电镀废水 :含异丙醇、高锰酸盐指数等生产物 解决施工工艺程序 利用"生物凝固自己+混泥土凝固自己+高度进行过滤"三级分销处置软件: 一级通过成绩治理 :污泥脱水氯化钙和氢钝化钙,变成氟化钙奠定,氟化物去掉率达85% 二次元处理 :移除PAC(整合氯化铝)和PAM(pe塑料酰胺),的还原胶体溶液态危害物 三级视频操作 :借助多媒质滤出器和催化活性炭过滤器吸附物,喷水氟化物溶度稳固在8mg/L以下的 主要产品涉及:pH全自动自动调节体统、斜管奠定池、板框压泥机(活性污泥过滤)。 结果效果好 工作加载2年监测的数据的数据展现: 氟化物分別氧化还原电位:7.2mg/L(压低发达我国行业标准规定) COD清除率:92% 工业废水含水分率:≤65% 年回报氟化钙副產品约150吨,推动网络秸秆综合利用率利用率

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